[发明专利]导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法无效
| 申请号： | 200710304076.3 | 申请日： | 2007-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101209927A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 王星明;储茂友;邓世斌;韩沧;段华英;孙静 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C04B35/645 | 分类号： | C04B35/645;C04B35/63;C04B35/01 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱琨 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法，通过在金属氧化物粉体原料中加入所述金属氧化物对应的金属粉并与之充分混合，或在靶材的制备过程中向保护气氛中充入H2气，使得靶材原位一次合成，即靶材材料的被还原与靶材成型烧结是同时进行的，简化了靶材制备的工艺流程；并通过控制金属粉加入量或保护气氛中H2的流量比例，可以控制成型靶材的电阻率，可以满足不同靶材的制备要求。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 氧化物 陶瓷 溅射 热压 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法，其特征在于，在金属氧化物粉体原料中加入所述金属氧化物对应的金属粉并与之充分混合，或在靶材的制备过程中向保护气氛中充入H2气。
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