[发明专利]一种具有微结构膜片的制造方法无效
申请号: | 200710194585.5 | 申请日: | 2007-12-03 |
公开(公告)号: | CN101201420A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
发明(设计)人: | 林奇锋;杨博华 | 申请(专利权)人: | 财团法人国家实验研究院国家高速网路与计算中心 |
主分类号: | G02B5/12 | 分类号: | G02B5/12;G02B5/126 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人: | 郭立中 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明一种具有微结构膜片的制造方法,涉及一种光学反射材料的制造领域,凭借静电吸附原理,将光学微粒黏附至基材表面具有黏着剂的黏覆层,经固化及去除静电后,使光学微粒形成微透镜扩散层的膜片,在透光时产生散射效果,以达到亮度均匀化的目的,具有降低生产成本及控制基材表面成为不同扩散条件的微结构膜片等特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 微结构 膜片 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有微结构膜片的制造方法,其特征在于包含:A.涂布:系于基材表面涂布一具有黏着剂的黏覆层;B.带电:系以雷射或其它装置,在滚筒特定位置处控制成带负电状态;C.吸附:系以带正电的光学微粒吸附至滚筒上;D.黏附:系将吸附至滚筒上带正电的光学微粒黏着附于基材表面的黏覆层;E.固化:系将黏附至基材的光学微粒利用固化装置的黏结剂及固化器予以固定;F.去静电:系将滚筒及黏附有光学微粒的基材上所带的静电以静电消除器去除。
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