[发明专利]光工具以及阻焊图案的形成方法有效
| 申请号： | 200710187256.8 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101183212A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 柴崎阳子;加藤贤治;有马圣夫 | 申请（专利权）人： | 太阳油墨制造株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/004;G03F7/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供阻焊膜的曝光处理技术，其可以不受阻焊层的膜厚、蓝色颜料的影响，再现性良好地形成高分辨率的抗蚀图案。提供一种阻焊膜的图案形成中的曝光处理技术，其中使用将370nm以下的光切断50％以上并且使400nm以上的光透过80％以上的薄膜或使用具备该薄膜的光工具。 | ||
| 搜索关键词： | 工具 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光工具，其被用于阻焊膜的图案形成中的曝光处理中，并具备光掩模，其特征在于，该光掩模的抗蚀剂面一侧具备薄膜，所述薄膜将370nm以下的光切断50％以上并且使400nm以上的光透过80％以上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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