[发明专利]X-射线断层摄影设备和伪影减少方法有效

专利信息
申请号: 200710181786.1 申请日: 2007-10-29
公开(公告)号: CN101169383A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 萩原明 申请(专利权)人: GE医疗系统环球技术有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;A61B6/03;G06T11/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;王忠忠
地址: 美国威*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种减少伪影的X-射线断层摄影设备(10)。该X-射线断层摄影设备包括将X射线暴露于对象的扫描装置(103);CT值改变指定装置(25),其针对通过反投影投影数据获得的断层摄影图像的目标像素,指定体轴方向上CT值改变量;第一伪影确定单元(27-1),其确定在包含目标像素的外围确定像素区域中CT值改变量是否包含在预定范围内;第二伪影确定单元(27-2),其确定当通过第一伪影确定包含在预定范围内的像素数量为第一阈值或以上时,目标像素为伪影;以及伪影减少单元,当第二伪影确定单元判断目标像素为伪影时,执行图像处理以减少伪影。
搜索关键词: 射线 断层 摄影 设备 减少 方法
【主权项】:
1.一种X-射线断层摄影设备(10),包括:扫描装置(103),用于在台架(100)和平台(109)中至少一个正沿着对象(HB)的体轴方向移动的同时将X射线暴露于对象,由此生成对象(HB)的投影数据;第一伪影确定单元(27-1),用于确定通过对投影数据进行反投影而获得的断层摄影图像中包含的每个像素作为伪影;第二伪影确定单元(27-2),用于以由第一伪影确定单元(27-1)确定为伪影的像素作为目标,设置确定像素区域,该确定像素区域包含目标像素以及位于目标像素周围的区域,以及当在第一伪影确定单元(27-1)处判断为能够在其产生伪影的像素的每个像素存在超过预定参考值时,再确定目标像素为伪影,;以及伪影减少单元(25),对最终判断为伪影的每个像素实施用于减少伪影的图像处理。
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