[发明专利]二硼化锆基梯度材料及其原位反应的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710171917.8 申请日: 2007-12-07
公开(公告)号: CN101186505A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 赵媛;江莞;王连军;陈立东 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/622
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 200050上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种二硼化锆基梯度材料和原位反应的制备方法。所述的ZrB2基梯度材料一端为ZrB2/SiC复合材料;另一端为(Zr,Hf)B2/SiC或者HfB2/SiC复合材料它是以低成本的普通微米级商用粉体为原料,混合均匀后采用放电等离子烧结方法进行快速烧结,烧结温度为1400~1550℃;升温速率范围为80~200℃/min;烧结压力范围为10~100MPa;保温时间范围为3~10min。利用原料反应放热及反应合成得到的新生成相的高活性,无需添加烧结助剂,即可制备出致密且具有良好的高温性能的ZrB2基梯度材料。所制备的材料具有更高的热导率、更高的力学性能与更优的抗氧化性能。制备周期短、能耗低、环境友好,具有良好的产业化前景。
搜索关键词: 二硼化锆基 梯度 材料 及其 原位 反应 制备 方法
【主权项】:
1.一种二硼化锆基梯度材料,其特征在于所述的二硼化锆基梯度材料一端是ZrB2-SiC,另一端为(Zr,Hf)B2-SiC或HfB2-SiC,中间至少一层,满足化学式:2(100-x)Zr+2xHf+B4C+Si→2(100-x)ZrB2+2xHfB2+SiC,0≤x≤100。
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