[发明专利]一种PSM与利用PSM的曝光机台焦距校准方法及其系统

摘要

一种PSM与利用PSM的曝光机台焦距校准方法及装置，涉及半导体曝光工艺领域，所述PSM包括多个由透光材料制成的透光区域，其中至少两个透光区域具有预定的光程差；多个由非透光材料制成的框。其中，所述曝光图案包括与所述多个框对应的多个图案。本发明根据所述多个框的相互位置关系与所检测的多个图案的相位位置关系，来控制对所述曝光机台的焦距进行调节。本发明校准精度高，而且操作简单，提高了生产效率，节省了时间。

主权项

1. 一种用于半导体曝光机台焦距校准的相偏移光罩，其特征在于，包括：多个由透光材料制成的透光区域，其中至少两个透光区域具有预定的光程差；多个由非透光材料制成的框，所述每个框的内外边界分别与所述多个透光区域中任两个相邻或相接，其中，其中至少两个框被放置为，使得当利用该光罩进行曝光时，所得的与所述至少两个框相应的曝光图案随曝光机台焦距变化而产生的偏移方向不一致。