[发明专利]镭射标签的制作方法有效

专利信息
申请号: 200710171524.7 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101177046A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 毕家铮;熊志辉 申请(专利权)人: 上海紫泉标签有限公司
主分类号: B31D1/02 分类号: B31D1/02;B44F1/12;B41M3/00
代理公司: 上海明成云知识产权代理有限公司 代理人: 周成
地址: 201108上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种镭射标签的制作方法,步骤依次为:a.在塑料薄膜基材上模压镭射图案;b.对塑料薄膜基材模压有镭射表面进行电晕处理;c.进行真空镀铝;d.对塑料薄膜基材印刷面进行表面涂布;e.进行凹版印刷;f.最后对印刷表层上光涂布。采用这样的方法可以制作成不具有复合层结构的镭射标签,能够保证制得的镭射标签具有适当的厚度、硬挺度、爽滑度,能够满足镭射标签高速绕贴的要求,并且制得的镭射标签不需要复合保护层,节省了材料,减低了成本。
搜索关键词: 镭射 标签 制作方法
【主权项】:
1.一种镭射标签的制作方法,特征在于其步骤依次为:a、在塑料薄膜基材上模压镭射图案;b、对塑料薄膜基材模压有镭射图案的表面进行电晕处理;c、进行真空镀铝;d、对塑料薄膜基材印刷面进行表面涂布;e、进行凹版印刷;f、最后对印刷表层上光涂布。
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