[发明专利]离子注入机无效
申请号: | 200710167994.6 | 申请日: | 2007-10-31 |
公开(公告)号: | CN101174534A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 山下贵敏;藤田秀树 | 申请(专利权)人: | 日新意旺机械股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01L21/265 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李涛;钟强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种离子注入机,具有:生成离子束的离子源;电子束源,发射电子束以便在离子源中在Y方向上被扫描;用于这些源的电源;离子束监控器,在注入位置附近,测量离子束的Y方向离子束电流密度分布;以及控制设备。控制设备在根据监控器的测量数据来控制电源的同时,通过增加在对应于其中由监控器所测量的离子束电流密度相对较大的监控点的位置处的电子束的扫描速度,以及降低在对应于其中所测量的离子束电流密度相对较小的监控点的位置处的电子束的扫描速度,具有均匀化由监控器所测量的Y方向离子束电流密度分布的功能。 | ||
搜索关键词: | 离子 注入 | ||
【主权项】:
1.一种离子注入机,其中离子束的前进方向被设置为Z方向,在基本上垂直于Z方向的平面上基本上相互垂直的两个方向分别被设置为X和Y方向,并且传输其中Y方向的尺寸大于X方向的尺寸的带状离子束以照射衬底,从而执行离子注入,所述离子注入机包括:离子源,其具有一或多个灯丝,用于在气体被导入的等离子容器中生成电弧放电,并且其生成Y方向尺寸大于衬底的Y方向尺寸的带状离子束;衬底驱动设备,在其中使离子束入射到衬底上的注入位置处,在与离子束的主表面相交的方向上移动衬底;一或多个电子束源,生成电子束,发射电子束到所述离子源的所述等离子容器中以离子化气体,从而产生等离子,并且在所述等离子容器中在Y方向上扫描电子束;一或多个电子束电源,其为所述电子束源提供用于控制电子束的生成量的引出电压,以及用于扫描的扫描电压;离子束监控器,在注入位置或该位置附近,在Y方向上的多个监控点上测量离子束的Y方向离子束电流密度分布;以及控制设备,在根据所述离子束监控器的测量数据来控制所述电子束电源以便将由所述电子束源所生成的电子束的量保持在基本恒定的值的同时,通过执行下述至少一个:相对增加在所述离子源中的对应于其中由所述离子束监控器所测量的离子束电流密度相对较大的监控点的位置中的电子束的扫描速度,以及相对降低在所述离子源中的对应于其中由所述离子束监控器所测量的离子束电流密度相对较小的监控点的位置中的电子束的描速度,该控制设备具有使由所述离子束监控器所测量的Y方向离子束电流密度分布均匀的功能。
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