[发明专利]具有温度控制研磨头的化学机械研磨系统无效
| 申请号： | 200710162859.2 | 申请日： | 2007-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101224561A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 黄见翎;詹政勋 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00;B24B55/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明有关于一种具有温度控制研磨头的化学机械研磨系统，用于研磨晶圆，其包括一研磨头；一连接研磨头的内管，其中内管内填充有热媒介物；一连接内管的媒介物加热器；以及一连接内管的压力控制器。本发明的本发明化学机械研磨系统不会在晶圆上形成不需要复杂度，且能增加化学机械研磨率并能改进化学机械研磨均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 温度 控制 研磨 化学 机械 系统 | ||
【主权项】：
1.一化学机械研磨系统，用于研磨一晶圆，其特征在于其包括：一研磨头；一内管，连接至该研磨头，其中该内管填装有一热媒介物；一媒介加热器，连接至该内管；以及一压力控制器，连接至该内管。
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