[发明专利]氮化物半导体激光器件无效
申请号: | 200710153168.6 | 申请日: | 2005-05-17 |
公开(公告)号: | CN101132113A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 津田有三;花冈大介;石田真也 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01S5/022 | 分类号: | H01S5/022;H01S5/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 葛青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种氮化物半导体激光器件(10),包括:氮化物半导体激光元件(11),其具有谐振腔端面且能够发射波长最长为420nm的光;连接到所述氮化物半导体激光元件(11)的散热器(12);管座(14),其上安装有散热器(12);以及设置在所述管座(14)上的光探测元件(13),用于探测来自所述氮化物半导体激光元件(11)的激光束。所述氮化物半导体激光元件(11)、散热器(12)和光探测元件(13)密封在连接到管座(14)的罩(15)中,且所述罩(15)之内的气氛具有最高为-30℃的露点和最高100ppm的氧浓度。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 半导体激光器 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物半导体激光器件(10),包括:氮化物半导体激光元件(11),其具有谐振腔端面且能够发光;以及管座(14),其具有所述氮化物半导体激光元件(11),其中所述氮化物半导体激光元件(11)密封在罩(15)之内,该罩连接到所述管座(14),且所述罩(15)中的气氛具有最高-30℃的露点和小于100ppm的氧浓度。
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