[发明专利]具有重叠的固定面积螺旋凹槽的化学机械抛光垫

摘要

一种圆形化学机械抛光垫，其包括具有同心定位的原点的抛光面。所述抛光面包括凹槽组，这些凹槽组各自包括以一定图案排列的凹槽，一个凹槽组中的凹槽与另一个凹槽组中的凹槽交叉。各凹槽组中的凹槽构造和排列成使得沿着任意与所述原点同心且穿过所述凹槽的圆测得的抛光面开槽率基本固定，即约在其平均值的25％以内。

主权项

1.一种抛光垫，其包括：构造成用来在存在抛光介质的情况下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面具有同心中心和外部周边；形成于所述圆形抛光面中的至少一个第一凹槽；以及形成于所述圆形抛光面中的至少一个第二凹槽，使得所述至少一个第二凹槽与所述至少一个第一凹槽交叉至少两次，从而限定出至少一个具有四个弯曲侧面的四面形凸块；其中，所述至少一个第一凹槽和所述至少一个第二凹槽各自为所述圆形抛光面提供从靠近所述同心中心的第一位置到靠近所述外部周边的第二位置的圆周开槽率，所述各圆周开槽率具有平均值，并保持在所述平均值的大约25％以内。