[发明专利]具有重叠的固定面积螺旋凹槽的化学机械抛光垫

权利要求书

1.一种抛光垫，其包括：

构造成用来在存在抛光介质的情况下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面具有同心中心和外部周边；

形成于所述圆形抛光面中的至少一个第一凹槽；以及

形成于所述圆形抛光面中的至少一个第二凹槽，使得所述至少一个第二凹槽与所述至少一个第一凹槽交叉至少两次，从而限定出至少一个具有四个弯曲侧面的四面形凸块；

其中，所述至少一个第一凹槽和所述至少一个第二凹槽各自为所述圆形抛光面提供从靠近所述同心中心的第一位置到靠近所述外部周边的第二位置的圆周开槽率，所述各圆周开槽率具有平均值，并保持在所述平均值的大约25％以内。

2.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述至少一个第一凹槽具有第一起始半径和第一螺旋形状，所述第一螺旋形状由一组固定圆周开槽率公式作为所述第一起始半径的函数来确定，所述至少一个第二凹槽具有第二起始半径和第二螺旋形状，所述第二螺旋形状由所述固定圆周开槽率公式组作为所述第二起始半径的函数来确定。

3.如权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，当所述抛光垫用于抛光的时候，所述抛光面具有环形的晶片轨迹，所述第一起始半径位于所述抛光面的所述同心中心和所述抛光轨迹之间，所述第二起始半径位于所述晶片轨迹内。

4.如权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述至少一个第一凹槽沿第一方向围绕所述圆形抛光面的所述同心中心旋绕，所述至少一个第二凹槽沿与所述第一方向相反的第二方向围绕所述同心中心旋绕。

5.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，还包括多个第一凹槽，它们提供各自的固定圆周开槽率凹槽，所述多个第一凹槽具有在所述多个第一凹槽间发生变化的角节距。

6.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述至少一个第一凹槽和所述至少一个第二凹槽各自的所述圆周开槽率具有一个平均值，并保持在该平均值的大约10％以内。

7.一种抛光垫，其包括：

构造成用来在存在抛光介质的情况下抛光磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种的抛光层，所述抛光层包括具有同心中心和外部周边的圆形抛光面；

第一凹槽组，该第一凹槽组具有第一起始半径，包括形成于所述圆形抛光面中的多个第一凹槽，所述多个第一凹槽中的各个凹槽根据一组固定圆周开槽率公式作为所述第一起始半径的函数来设置，从而提供第一圆周开槽率，所述第一圆周开槽率具有第一平均值，并保持在该第一平均值的大约5％以内；以及

第二凹槽组，该凹槽组具有第二起始半径，包括形成于所述圆形抛光面内的多个第二凹槽，使得所述多个第一凹槽中的凹槽与所述多个第二凹槽中的凹槽交叉至少一次，从而限定出各自具有四个弯曲侧面的多个四面形凸块，各所述多个第二凹槽根据所述固定圆周开槽率公式组作为所述第二起始半径的函数来设置，从而提供第二圆周开槽率，所述第二圆周开槽率具有第二平均值，并保持在该第二平均值的大约5％以内。

8.如权利要求7所述的抛光垫，其特征在于，所述第一起始半径小于所述抛光垫外半径的约1/12，以使得所述第一凹槽组中的各螺旋凹槽旋绕至少两整周。

9.如权利要求8所述的抛光垫，其特征在于，所述第二起始半径大于所述抛光垫外半径的约1/3，以使得所述第二凹槽组中的各螺旋凹槽旋绕不超过一整周。

10.如权利要求8所述的抛光垫，其特征在于，所述第二起始半径小于所述抛光垫外半径的约1/12，以使得第二凹槽组中的各螺旋凹槽旋绕至少两整周。