[发明专利]基于碱基修饰保护往复延伸的DNA测序方法无效

专利信息
申请号: 200710131550.7 申请日: 2007-09-14
公开(公告)号: CN101153338A 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 罗俊峰;陆祖宏;郑文莉;白云飞 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 叶连生
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种基于碱基修饰保护往复延伸的DNA测序方法,DNA序列的确定是通过基于碱基修饰保护的“标记延伸-切割-保护延伸”测序步骤来实现的。该方法能实现原位清除延伸标记物,同时保护引物延伸末端完整、能够逐步合成鉴定未知碱基;逐一的单体延伸测序,延伸一种标记单体,提取信息,然后清除这种单体,加上修饰保护单体,再衍生下一种标记单体,错误延伸的累积效应不严重,序列的判读明了准确,不存在测序长度的限制。
搜索关键词: 基于 碱基 修饰 保护 往复 延伸 dna 方法
【主权项】:
1.一种基于碱基修饰保护往复延伸的DNA测序方法,其特征在于DNA序列的确定是通过基于碱基修饰保护的“标记延伸-切割-保护延伸”测序步骤来实现的,具体测序步骤为:a.向待测定DNA模板3′端引入一段20-50碱基长度的公用片段作为测序引物杂交序列,将与公用片段互补的3′端碱基修饰保护的测序引物与固定在固相载体上的待测定DNA模板杂交结合;b.标记延伸:向步骤a)所得杂交后的测序DNA模板中,顺序加入或同时加入标记核苷酸单体,在测序引物上进行延伸反应,并根据延伸上的标记核苷酸单体得出待测定DNA模板在该次延伸中的碱基信息;c.切割:将步骤b)中延伸上的标记核苷酸单体通过切割方法进行清除;d.保护延伸:在经步骤c)处理后的测序引物序列上延伸与步骤c)中被切除碱基相同的的修饰保护核苷酸单体;e.循环上述步骤b)、c)和d)所进行的“标记延伸-切割-保护延伸”过程,由此确定待测定DNA模板的序列。
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