[发明专利]一种倒梯形微结构高亮度发光二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200710114785.5 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101207172A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 洪灵愿;潘群峰;林雪娇;陈文欣;吴志强 申请(专利权)人: 厦门三安电子有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 厦门原创专利事务所 代理人: 徐东峰
地址: 361009福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种倒梯形微结构高亮度发光二极管及其制作方法,在GaAs衬底上生长发光二极管外延片由第一导电型接触电极、第一导电型欧姆接触层、第一导电型电流扩展层、第一导电型下限制层、非掺杂的有源区、第二导电型上限制层、第二导电型电流扩展层、第二导电型欧姆接触层堆叠而成;外延片中设有反光镜,反光镜依次由介质层,金属层和阻挡层层层积淀形成;永久性衬底是由基板衬底上是生长粘贴层、金属焊料层积淀在粘贴层上;金属电极淀积在永久性衬底底部;外延片以倒装方式叠置于基板衬底上并在真空下键合。在外延片中形成一种倒梯形结构,解决常规矩形结构中光的波导效应带来的光损失问题,并可大大提升取光效率。
搜索关键词: 一种 梯形 微结构 亮度 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种倒梯形微结构高亮度发光二极管,其特征在于:在GaAs衬底上生长发光二极管外延片(300),其由第一导电型欧姆接触电极(505)、第一导电型欧姆接触层(304)、第一导电型电流扩展层(305)、第一导电型下限制层(306)、非掺杂的有源区(307)、第二导电型上限制层(308)、第二导电型电流扩展层(309)、第二导电型欧姆接触层(310)堆叠而成;外延片(300)中设有反光镜,反光镜依次由介质层(501),金属层(502)和阻挡层(503)层层积淀形成;永久性衬底(400)是由基板衬底(401)上是生长粘贴层(402)、金属焊料层(403)积淀在粘贴层(402)上;金属电极(504)淀积在永久性衬底(400)底部;外延片(300)以倒装方式叠置于基板衬底(401)上,并在真空下键合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门三安电子有限公司,未经厦门三安电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710114785.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top