[发明专利]一种倒梯形微结构高亮度发光二极管及其制作方法有效
| 申请号: | 200710114785.5 | 申请日: | 2007-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN101207172A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
| 发明(设计)人: | 洪灵愿;潘群峰;林雪娇;陈文欣;吴志强 | 申请(专利权)人: | 厦门三安电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 厦门原创专利事务所 | 代理人: | 徐东峰 |
| 地址: | 361009福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | 一种倒梯形微结构高亮度发光二极管及其制作方法,在GaAs衬底上生长发光二极管外延片由第一导电型接触电极、第一导电型欧姆接触层、第一导电型电流扩展层、第一导电型下限制层、非掺杂的有源区、第二导电型上限制层、第二导电型电流扩展层、第二导电型欧姆接触层堆叠而成;外延片中设有反光镜,反光镜依次由介质层,金属层和阻挡层层层积淀形成;永久性衬底是由基板衬底上是生长粘贴层、金属焊料层积淀在粘贴层上;金属电极淀积在永久性衬底底部;外延片以倒装方式叠置于基板衬底上并在真空下键合。在外延片中形成一种倒梯形结构,解决常规矩形结构中光的波导效应带来的光损失问题,并可大大提升取光效率。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 梯形 微结构 亮度 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种倒梯形微结构高亮度发光二极管,其特征在于:在GaAs衬底上生长发光二极管外延片(300),其由第一导电型欧姆接触电极(505)、第一导电型欧姆接触层(304)、第一导电型电流扩展层(305)、第一导电型下限制层(306)、非掺杂的有源区(307)、第二导电型上限制层(308)、第二导电型电流扩展层(309)、第二导电型欧姆接触层(310)堆叠而成;外延片(300)中设有反光镜,反光镜依次由介质层(501),金属层(502)和阻挡层(503)层层积淀形成;永久性衬底(400)是由基板衬底(401)上是生长粘贴层(402)、金属焊料层(403)积淀在粘贴层(402)上;金属电极(504)淀积在永久性衬底(400)底部;外延片(300)以倒装方式叠置于基板衬底(401)上,并在真空下键合。
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