[发明专利]具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物无效
| 申请号： | 200710109894.8 | 申请日： | 2007-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101085902A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | B·L·穆勒 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用来对半导体基板上的二氧化硅和氮化硅进行抛光的组合物的制备方法。该方法包括：对羧酸聚合物进行离子交换以减少氨；将0.01－5重量％离子交换的羧酸聚合物与以下组分混合起来：0.001－1重量％的季铵化合物、0.001－1重量％的邻苯二甲酸及其盐、0.01－5重量％的磨料和余量的水。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 终点 检测 能力 用来 二氧化硅 氮化 进行 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用来对半导体基板上的二氧化硅和氮化硅进行抛光的组合物的制备方法，该方法包括：对羧酸聚合物进行离子交换以减少氨；将0.01-5重量％进行过离子交换的羧酸聚合物与以下组分混合起来：0.001-1重量％的季铵化合物、0.001-1重量％的邻苯二甲酸及其盐、0.01-5重量％的磨料和余量的水。
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