[发明专利]光掩模和曝光方法有效
| 申请号： | 200710103488.0 | 申请日： | 2007-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN101075086A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 宅岛克宏;安井孝史 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社;松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/14;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光掩模以及一种使用此光掩模的曝光方法，所述光掩模可以防止在使用光掩模的过程中杂质的产生。所述光掩模包括：透明衬底(2)；转移图样(4)，所述转移图样形成在透明衬底(2)的中心部分的主要区域(3)内；遮光带区域(5)，所述遮光带区域邻近主要区域(3)地设置在主要区域(3)的外周边区域内；和护膜(6)，所述护膜通过利用粘合剂(8a)将护膜薄膜(6a)粘附到护膜框架(6b)上，其中此护膜(6)粘附到遮光区域(7)上，所述遮光区域(7)由遮光膜组成，所述遮光膜通过粘合剂(8b)形成在主要区域(3)的外周边区域内。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光掩模，所述光掩模用于使用曝光设备的图样转移，所述光掩模包括：透明衬底；需求的转移图样，所述需求的转移图样形成在透明衬底的中心部分的主要区域内；和护膜，通过将护膜框架粘附到所述主要区域的外周边区域上，所述护膜安装成覆盖包括所述主要区域的区域，其中所述光掩模包括在所述主要区域的外周边区域内的光透射区域，所述透明衬底在所述光透射区域内被露出；和包括护膜框架粘附到其上的表面的区域，所述包括护膜框架粘附到其上的表面的区域由遮光区域形成，所述遮光区域形成有遮光薄膜，所述遮光薄膜具有对所述曝光设备的曝光光线的遮光特性。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
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