[发明专利]高压无线射频功率元件无效

专利信息
申请号: 200710102137.8 申请日: 2007-04-29
公开(公告)号: CN101295715A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 黄圣懿;洪建州;陈佑嘉;曾金兰;曾志裕;梁其翔;林俊仪 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L23/522;H01L29/78
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高压无线射频功率元件,包括多个串接的晶体管,其包括一栅极,设于一基底上;一栅极介电层,设于该栅极与该基底间;一漏极结构,设于该栅极的一侧,其包括一N+掺杂区、一浅沟渠绝缘结构以及一N离子井,其中该浅沟渠绝缘结构包围该N+掺杂区,该N离子井位于该N+掺杂区与该浅沟渠绝缘结构正下方;以及一N+源极掺杂区,设于该栅极的另一侧。
搜索关键词: 高压 无线 射频 功率 元件
【主权项】:
1.一种高压无线射频功率元件,包括有:第一晶体管,包括有:第一栅极,设于半导体基底表面上;第一栅极介电层,设于该第一栅极与该半导体基底间;第一漏极结构,包括第一N+掺杂区、第一浅沟渠绝缘结构以及第一N-离子井,其中该第一浅沟渠绝缘结构包围该第一N+掺杂区,该第一N- 离子井位于该第一N+掺杂区与该第一浅沟渠绝缘结构正下方;第一N+源极掺杂区;第二晶体管,串接至第一晶体管,该第二晶体管包括有:第二栅极,设于半导体基底表面上;第二栅极介电层,设于该第二栅极与该半导体基底间;第二漏极结构,包括第二N+掺杂区、第二浅沟渠绝缘结构以及第二N-离子井,其中该第二浅沟渠绝缘结构包围该第二N+掺杂区,该第二N- 离子井位于该第二N+掺杂区与该第二浅沟渠绝缘结构正下方;以及第二N+源极掺杂区;其中,该第一栅极与该第二栅极电连接至相同的栅极电压信号,该第一N+掺杂区与该第二N+掺杂区电连接至相同的漏极电压信号,该第一N+ 源极掺杂区与该第二N+源极掺杂区电连接至相同的源极电压信号。
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