[发明专利]图案化的光提取片及其制造方法有效
| 申请号： | 200710097142.4 | 申请日： | 2007-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101064357A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | G·卡纳里昂;D·W·莫斯利 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 揭示了一种包括图案化的包封区域的光提取包封片。还揭示了一种制造所述光提取包封片的方法和将所述光提取包封片固定于多层叠层的发光叠层表面的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 提取 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造光提取包封片的方法，该方法包括以下步骤：A)提供包含包封材料的包封块；B)在所述包封块的表面上形成具有外部图案化的包封表面的图案化的包封区域，所述形成图案化的包封区域的步骤包括：a)形成包括至少一个第一凹陷的第一凹陷组；b)用第一凹陷填料填充所述第一凹陷；c)任选地形成包括至少一个第二凹陷的第二凹陷组；用第二凹陷填料填充所述第二凹陷；所述第一凹陷组和第二凹陷组中的至少一组具有图案，其中：所述图案选自随机图案、周期性图案或它们的组合，所述图案在至少一个横向维度上具有至少为5纳米，且不大于5000微米的特征尺寸；所述周期性图案在至少一个横向维度上具有至少10纳米，且不大于5000微米的周期；所述第一凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米，且不大于10000微米；所述第二凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米，且不大于10000微米；所述第一凹陷和第二凹陷中的至少一种具有与所述外部图案化的包封表面相重合的凹陷开口；所述第一凹陷填料的折射率与所述第二凹陷填料和所述包封材料中至少一种的折射率之差至少为0.001，且不大于3.0。
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