[发明专利]蒸发镀膜装置、方法、电光装置的制造方法及成膜装置无效
| 申请号： | 200710095825.6 | 申请日： | 2007-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN101050519A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 中西淳二;清水雄一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 李峥;刘薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在蒸发镀膜装置中，降低在真空室内的壁面上附着的附着物的剥离并且提高蒸发镀膜膜的指向性。蒸发镀膜装置(10)具备：使从标靶(110)蒸发的蒸发物质(110)在基板(210)上进行蒸发镀膜的电子束系统(120)；规定用于设置标靶(110)和基板(210)的空间(101)并能够将空间(101)维持为真空的室(100)。进一步地，具备：在室(100)的侧壁面(100a)的一部分上设置的、向着与侧壁面(100a)的法线方向相比朝向标靶(110)的方向各自突出的多个屋檐部(150)。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 镀膜 装置 方法 电光 制造 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于，具备：蒸发镀膜单元，其使从蒸发镀膜源蒸发的蒸发物质在基板上进行蒸发镀膜；真空槽，其规定用于设置上述蒸发镀膜源和上述基板的空间并且能够将该空间维持为真空；以及蒸发物质附着单元，其被设置在上述真空槽的壁面的至少一部分上，具有向着与上述壁面的法线方向相比朝向上述蒸发镀膜源的方向各自突出的多个突出部，并使上述蒸发物质附着。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710095825.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
