[发明专利]蒸发镀膜装置、方法、电光装置的制造方法及成膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及适宜用于对例如液晶装置等电光装置中涉及的无机取向膜进行斜向蒸发镀膜的蒸发镀膜装置、蒸发镀膜方法、以及使用该蒸发镀膜装置的电光装置的制造方法和成膜装置的技术领域。

背景技术

在这种蒸发镀膜装置中，来自蒸发镀膜源的蒸发物质附着在真空室内的壁面上之后，为了防止由于附着物从壁面剥离而使真空室内被污染，在真空室内的壁面等上设置有防沉积板。例如，在专利文献1中，公开了通过在防沉积板上安装加热器来减少在防沉积板上附着的蒸发物的附着量、从而防止附着物剥离的技术。此外，例如在专利文献2中，公开了通过具有开口部并且将能够冷却的遮蔽体设置在蒸发镀膜源和作为成膜对象的基板之间来控制蒸发物质飞行的方向的技术。

[专利文献1]特开2001-192816号公报

[专利文献2]特开平6-181175号公报

但是，在上述的技术中，存在很难使在设置在真空室内的壁面上的防沉积板上附着的附着物的剥离充分减少的技术问题。此外，还存在由于从真空室内的壁面或者防沉积板反弹的蒸发物质使得被成膜的蒸发镀膜膜的指向性降低的技术问题。

发明内容

本发明正是鉴于例如上述的问题而提出的，其目的在于提供一种能够减少在真空室内的壁面上附着的附着物的剥离并且能够提高蒸发镀膜膜的指向性的蒸发镀膜装置、蒸发镀膜方法、以及使用该蒸发镀膜装置的电光装置的制造方法和成膜装置。

本发明的第1蒸发镀膜装置为了解决上述问题，具备：使从蒸发镀膜源蒸发的蒸发物质在基板上进行蒸发镀膜的蒸发镀膜单元；规定用于设置上述蒸发镀膜源和上述基板的空间并且能够将该空间维持为真空的真空槽；在上述真空槽的壁面的至少一部分设置的、具有向着与上述壁面的法线方向相比朝向上述蒸发镀膜源的方向各自突出的多个突出部、并使上述蒸发物质附着的蒸发物质附着单元。

如果采用本发明的第1蒸发镀膜装置，则利用在真空槽中设置的蒸发镀膜单元，在基板上对从蒸发镀膜源蒸发的蒸发物质进行蒸发镀膜。在此，本发明的所谓“真空槽”，是表示构成为规定用于设置蒸发镀膜源(或者也称为标靶)和成为被蒸发镀膜对象的基板的空间并且能够将该空间维持为真空的室等箱体的概念，在确保这个概念的范围中，其形状和材质等没有任何限定。但是，作为构成材料，鉴于机械、物理及化学的稳定性，最好使用金属材料、钢铁材料、玻璃材料、陶器或者陶瓷材料等。所谓“真空”，是包括以比大气压低的压力的气体充满的空间的状态的概念，理想地，指从大气压减压到当在基板上对蒸发物质进行蒸发镀膜时在空气中包含的氧气和氮气等杂质不影响膜质量的程度的空间的状态。所谓“维持为真空”，是包含作为例如利包含旋转式泵、机械增压泵、油扩散泵或者涡轮分子泵等的排气系统从真空槽中排出的气体的量和真空槽的气体的泄漏量相抵的结果，达到稳定在一定程度或者能够看作一定程度的真空度的状态的概念。作为本发明的“蒸发镀膜单元”，可以使用例如电阻加热蒸发镀膜法、电磁加热蒸发镀膜法等。所谓本发明的“蒸发镀膜源”，是包括能够通过加热而蒸发的物质的概念，在确保该概念的范围中，其材质、形状和其它的物理特性没有任何限定。例如，蒸发镀膜源可以是SiO或SiO2等无机材料。此外，也可以是液晶装置等电光装置中能够作为无机取向膜材料使用的无机材料。

在本发明中，特别地，具备在真空槽的壁面的至少一部分具有向着与该壁面的法线方向相比朝向蒸发镀膜源的方向突出的多个突出部的蒸发物质附着单元。即，例如，当在真空槽的下方一侧设置有蒸发镀膜源并且在上方一侧设置有基板时，在真空槽的侧壁面上蒸发镀膜源的上方一侧设置有在朝向蒸发镀膜源的方向(即，斜下方)上各自突出的多个突出部。多个突出部分别例如以数mm左右的宽度和厚度在朝向蒸发镀膜源的方向上突出为仅仅数mm左右的屋檐状，并在真空槽的壁面上排列成例如格子状、条纹状等。而且，多个突出部也可以设置在在真空槽的壁面上具备的用于使蒸发物质附着的防沉积板上。即，本发明的“蒸发物质附着单元”是包含设置有这样的多个突出部的防沉积板的意思。