[发明专利]单源多漏的MOS器件有效

专利信息
申请号: 200710094395.6 申请日: 2007-12-06
公开(公告)号: CN101452936A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 董科;张博;徐云 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 陈 平
地址: 201206上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种单源多漏的MOS器件,所述MOS器件包括源极、栅极和漏极,所述源极在衬底上的投影为多边形,所述栅极包围在源极四周且所述栅极外围在衬底上的投影为多边形,所述漏极有多个且各自独立,所述漏极分布在栅极四周。本发明单源多漏的MOS器件可以在各类存储器电路中实现具有相同源极和栅极的多个MOS晶体管,使不同MOS晶体管的源极和栅极实现共享,与传统MOS器件相比有效节省了存储器面积。
搜索关键词: 单源多漏 mos 器件
【主权项】:
1. 一种单源多漏的MOS器件,所述MOS器件包括源极、栅极和漏极,其特征是:所述源极在衬底上的投影为多边形,所述栅极包围在源极四周且所述栅极外围在衬底上的投影为多边形,所述漏极有多个且各自独立,所述漏极分布在栅极四周。
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