[发明专利]光刻装置以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200710085250.X | 申请日： | 2007-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101055425A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | E·A·F·范德帕施;E·J·M·尤森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括位移测量系统，其用于在居中于可动物体中心的x－y－z直角坐标系统的至少三个共面的自由度(x，y，Rz)上，测量可动物体相对于光刻装置参照系的位置。可动物体包括配置成用于支撑图案形成装置的支撑结构或配置成用于支撑衬底的衬底台。位移测量系统包括至少三个传感器头，各传感器头定位成使得测量方向与坐标系统的x－y平面基本上共面，并且各传感器头另外还定位成使得测量方向基本上垂直于将传感器头与可动物体的中心相连并且与x－y平面共面地延伸的连接线。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：配置成用于调节辐射光束的照明系统；构造成用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置能够在辐射光束的横截面上为所述辐射光束赋予图案，以形成图案化的辐射光束；构造成用于保持衬底的衬底台；投影系统，其配置成用于将图案化的辐射光束投射在衬底的目标部分上；和位移测量系统，其配置成用于在居中于可动物体上的x-y-z直角坐标系统的至少三个共面的自由度(x，y，Rz)上，测量所述可动物体相对于所述光刻装置参照系的位置，所述可动物体包括支撑结构和衬底台的其中一个，所述位移测量系统包括至少三个传感器头，各传感器头沿着与所述坐标系统的x-y平面基本上共面的测量方向而定位，所述测量方向基本上垂直于将所述传感器头与所述可动物体的中心相连并且与所述x-y平面共面地延伸的线。
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