[发明专利]光刻装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

配置成用于调节辐射光束的照明系统；

构造成用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置能够在 辐射光束的横截面上为所述辐射光束赋予图案，以形成图案化的辐射光束；

构造成用于保持衬底的衬底台；

投影系统，其配置成用于将图案化的辐射光束投射在衬底的目标部分 上；和

位移测量系统，其配置成用于在居中于可动物体上的x-y-z直角坐标系 统的至少三个共面的自由度上，测量所述可动物体相对于所述光刻装置参 照系的位置，所述可动物体包括支撑结构和衬底台的其中一个，所述位移 测量系统包括，

至少三个传感器头，各传感器头沿着与所述坐标系统的x-y平面基本上 共面的测量方向而定位，所述测量方向基本上垂直于将所述传感器头与所 述可动物体的中心相连并且与所述x-y平面共面地延伸的线，其中所述线定 向成相对于所述x-y-z坐标系统的x-y方向而成大约+/-45度的角度。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述位移测量系统 包括至少四个传感器头。

3.根据权利要求2所述的光刻装置，其特征在于，所述位移测量系统 配置成用于根据所述可动物体的位置，而选择性地使用所述四个传感器头 中的三个来确定所述可动物体在所述至少三个共面的自由度上的位置。

4.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述传感器头的至 少其中一个是安装在所述可动物体和所述参照系之一上的编码器，所述位 移测量系统还包括安装在所述可动物体和所述参照系中的另一个上的至少 一个格栅板，在所述格栅板上，可以在至少一个方向上进行测量。

5.根据权利要求4所述的光刻装置，其特征在于，所述格栅板安装在 所述参照系上，并且所述编码器安装在所述可动物体上。

6.根据权利要求4所述的光刻装置，其特征在于，所述格栅板包括格 栅，在所述格栅上，可以在若干方向上进行测量。

7.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述可动物体是所 述衬底台。

8.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述传感器头围绕 所述中心定位，以便围绕所述可动物体的所述中心等距离地分开。

9.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述传感器头彼此 之间是基本上等距离的。

10.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，其中至少一个所 述传感器头相对于其相邻的传感器头至少在x-方向或y-方向上错开。

11.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述可动物体的 所述中心基本上对应于所述物体的抗弯曲性最弱的方向的相交点。

12.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述可动物体的 所述中心是所述物体的质量中心。

13.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述可动物体的 所述中心是所述物体的测温中心。

14.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述传感器头包 括两个传感器，其中感测方向向上倾斜地定位，使得与所述x-y平面基本上 共面的所述测量方向可以计算出，并且z-方向上的测量方向可以计算出。

15.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述位移测量系 统设置成可测量所述可动物体在六个自由度上的位置。

16.一种器件制造方法，包括：

将图案化的辐射光束投射在衬底上，其中，在所述图案化的光束的投 射过程中，所述衬底被支撑在衬底台上；以及

在居中于所述衬底台上的x-y-z直角坐标系统的至少三个共面的自由度 上，利用位移测量系统来测量衬底台相对于光刻装置参照系的位置，其中， 所述位移测量系统包括至少三个传感器头，各传感器头定位成使得测量方 向与所述坐标系统的x-y平面基本上共面，所述测量方向基本上垂直于将所 述传感器头与所述可动物体的中心相连并且与所述x-y平面共面地延伸的 线，所述线定向成相对于所述x-y-z坐标系统的x-y方向而成大约+/-45度的 角度。