[发明专利]一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置与方法

摘要

本发明所述的一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置，包括光谱仪、模拟放大滤波电路、模拟/数字转换模块与数字信号处理模块，本发明建立的等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置，监控刻蚀工艺过程中反应物或生成物量发生变化，而反应物或生成物的变化量与其发射光谱强度的变化情况一一对应，因而我们只要实时检测反应物或生成物谱线的趋势，即可确定刻蚀终点时间并且精确控制工艺过程。故通过该装置可以相对精确地预测刻蚀终点时间，避免了光谱信号因干扰过大而导致误抓刻蚀终点，达到精确的控制工艺。保证硅片加工质量和正常的硅片加工过程，提高生产效率。

主权项

1.一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置，其特征在于，包括，光谱仪，将检测到的等离子刻蚀设备内部的光信号，转换为模拟电信号输出；模拟放大滤波电路，将模拟电信号中的高频噪声干扰信号滤除，输出消除高频噪声干扰信号的模拟电信号；模拟/数字转换模块，将消除高频噪声干扰信号的模拟电信号转换为数字电信号输出至数字信号处理模块；数字信号处理模块，提高输入的数字电信号的信噪比、去除系统固有噪音、并进行滤波处理去除低频与随机噪声，得到终点控制参数，并根据所述终点控制参数确定等离子刻蚀设备是否达到刻蚀终点。