[发明专利]一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置与方法有效
申请号: | 200710062687.1 | 申请日: | 2007-01-12 |
公开(公告)号: | CN101221891A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 杨峰 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/66 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑立明;姚巍 |
地址: | 100016北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子 刻蚀 设备 终点 检测 装置 方法 | ||
1.一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置,其特征在于,包括,
光谱仪,将检测到的等离子刻蚀设备内部的光信号,转换为模拟电信号输出;
模拟放大滤波电路,将模拟电信号中的高频噪声干扰信号滤除,输出消除高频噪声干扰信号的模拟电信号;
模拟/数字转换模块,将消除高频噪声干扰信号的模拟电信号转换为数字电信号输出至数字信号处理模块;
数字信号处理模块,提高输入的数字电信号的信噪比、去除系统固有噪音、并进行滤波处理去除低频与随机噪声,得到终点控制参数,并根据所述终点控制参数确定等离子刻蚀设备是否达到刻蚀终点。
2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置,其特征在于,所述的装置还包括,
数字/模拟转换模块,将数字信号处理模块输出的终点控制参数转换为模拟控制信号;
光谱仪控制电路,根据模拟控制信号通过限幅电路对光谱仪的输出进行调整,调节光谱信号的范围,达到各个腔室的状态匹配。
3.根据权利要求1或2所述的等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置,其特征在于,所述的光谱仪为光电倍增管PMT式光谱仪,PMT接收等离子刻蚀设备内等离子体发射的光谱,并将光信号转换成模拟电信号。
4.根据权利要求1或2所述的等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置,其特征在于,所述的数字信号处理模块包括,
积分测量模块,多次采集输入的数字电信号,进行累加并取平均值作为一个采样周期的采样结果,提高数字电信号的信噪比;
系统固有噪音去除模块,在等离子刻蚀设备不进行工艺过程时检测等离子刻蚀设备内部的光信号,转换为数字信号作为系统的固有噪音,并从输入数字信号处理模块的数字信号中扣除系统固有噪音,以去除系统固有噪音;
数字滤波模块,采用中位值平均滤波法去除输入的数字信号中低频噪声与随机噪声;终点控制模块,根据经过积分测量方法、去除系统固有噪音与数字滤波后的数字信号,通过终点控制处理得到终点控制信号,用于确定等离子刻蚀设备是否达到刻蚀终点。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造