[发明专利]一种金属铜的抛光液有效
申请号: | 200710047467.1 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN101418191A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 宋伟红;姚颖;陈国栋;包建鑫 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/18 | 分类号: | C09G1/18;C09G1/02 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属铜的抛光液,其特征在于含有:磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种:磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种:嘧啶及其衍生物、带氨基和/或巯基的三唑环、哌啶及其衍生物以及哌嗪及其衍生物。本发明的抛光液具有的Cu的去除速率对下压力变化的敏感度较高。采用本发明的抛光液抛光后,铜金属表面光洁,表面形貌较好。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 抛光 | ||
【主权项】:
1. 一种金属铜的抛光液,其特征在于含有:磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种:嘧啶及其衍生物、带氨基和/或巯基的三唑环、哌啶及其衍生物、哌嗪及其衍生物。
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