[发明专利]一种金属铜的抛光液有效
| 申请号： | 200710047467.1 | 申请日： | 2007-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101418191A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;陈国栋;包建鑫 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属铜的抛光液，其特征在于含有：磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种：乙胺嘧啶、4-氨基-1,2,4-三氮唑、5-巯基-3-氨基-1,2,4-三唑、哌啶、2-哌啶甲酸、哌嗪六水、哌嗪，其中所述的氧化剂选自有机或无机过氧化物和/或过硫化物,所述的络合剂的含量为质量百分比0.1～5%。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的络合剂的含量为质量百分比0.2～3%。
3.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的磨料为SiO2或Al2O3。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的磨料的含量为质量百分比0.1～20%。
5.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的有机过氧化物为过氧化苯甲酰；所述的无机过氧化物为过氧化氢；所述的无机过硫化物为过硫酸盐。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氧化剂的含量为质量百分比0.1～10%。
7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的的抛光液的pH值为1～7。
8.如权利要求7所述的抛光液，其特征在于：所述的的抛光液的pH值为2～5。
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