[发明专利]一种光阻涂布和显影设备有效
| 申请号： | 200710043682.4 | 申请日： | 2007-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101344733A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 程蒙 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;H01L21/30 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光阻涂布和显影设备。现有的光阻涂布和显影设备的喷涂管路在扫描喷涂显影液时易被真空吸管触碰而在光阻上产生缺陷。本发明的光阻涂布和显影设备包括机架、装设在该机架上的主控模块、电源模块、光阻与晶圆间的附着力增强剂涂布模块、光阻涂布模块、烘烤模块、冷却模块和显影模块，其中，该显影模块具有用于传送晶圆的传送单元和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元，该传送单元上连接有至少一真空吸管，该喷涂单元具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路，该真空吸管的设置位置使该喷涂管路进行扫描喷涂时两者不产生触碰。采用本发明可大大减少喷涂显影液时在光阻上产生缺陷的几率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光阻涂布 显影 设备 | ||
【主权项】：
1、一种光阻涂布和显影设备，包括机架、装设在该机架上的主控模块、电源模块、光阻与晶圆附着力增强剂涂布模块、光阻涂布模块、烘烤模块、冷却模块和显影模块，其中，该显影模块具有一用于传送晶圆的传送单元和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元，该传送单元上连接有至少一真空吸管，该喷涂单元具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路，其特征在于，该真空吸管的设置位置使该喷涂管路进行扫描喷涂时两者不产生触碰。
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