[发明专利]一种光阻涂布和显影设备

说明书

技术领域

本发明涉及存储器领域，特别涉及一种光阻涂布和显影设备。

背景技术

在半导体制造领域，光阻涂布和显影设备的主要功能是将光阻涂布在晶圆表面和对曝光后图形的显影，所述设备包括机架、装设在所述机架上的主控模块、电源模块、光阻与晶圆间的附着力增强剂涂布模块、光阻涂布模块、烘烤模块、冷却模块和显影模块，其中，所述化合物涂布模块用于涂布增加光阻与晶圆表面附着力的化合物，所述显影模块具有用于传送晶圆的传送单元和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元，所述传送单元上连接有两个真空吸管，所述喷涂单元具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路，所述真空吸管与所述喷涂管路左右相邻，所述喷涂管路向左进行扫描喷涂，如此在喷涂管路在晶圆上扫描喷涂显影液的过程中，会触碰到两个真空吸管，即使轻微的触碰也会影响喷涂管路的喷涂剂量，从而会在光阻上产生缺陷，而所述光阻上的缺陷就会通过后续的刻蚀工序而在晶圆上产生相应的缺陷，从而晶圆上的器件性能将会受到不良影响。

因此，如何提供一种光阻涂布和显影设备以减小显影缺陷的产生，已成为业界亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光阻涂布和显影设备，通过光阻涂布和显影设备可大大减少光阻上产生缺陷的几率。

本发明的目的是这样实现的：一种光阻涂布和显影设备，包括机架、装设在该机架上的主控模块、光阻与晶圆间的附着力增强剂涂布模块、光阻涂布模块、烘烤模块、冷却模块、显影模块和机械传动模块，其中，该显影模块具有一用于传送晶圆的传送单元和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元，该传送单元上连接有至少一真空吸管，该喷涂单元具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路，该真空吸管的设置位置使该喷涂管路进行扫描喷涂时两者不产生触碰。

在上述的光阻涂布和显影设备中，该喷涂管路向左进行扫描喷涂。

在上述的光阻涂布和显影设备中，该真空吸管设置在该喷涂管路右侧。

在上述的光阻涂布和显影设备中，该真空吸管的数量为两个。

与现有技术中光阻涂布和显影设备的喷涂管路在扫描喷涂时易触碰到真空吸管而在光阻上产生缺陷相比，本发明的光阻涂布和显影设备调整了真空吸管和喷涂管路的设置位置，使真空吸管不出现在喷涂管路扫描喷涂必经的路线上，如此可大大减少光阻上缺陷的产生几率。

附图说明

本发明的光阻涂布和显影设备由以下的实施例及附图给出。

图1为光阻涂布和显影设备的组成结构框图；

图2为本发明的光阻涂布和显影设备的喷涂管路和真空吸管的排布示意图。

具体实施方式

以下将对本发明的光阻涂布和显影设备作进一步的详细描述。

参见图1，本发明的光阻涂布和显影设备包括机架1、装设在所述机架1上的主控模块10、电源模块11、附着力增强剂涂布模块12、光阻涂布模块13、烘烤模块14、冷却模块15和显影模块16，其中，所述显影模块16具有用于传送晶圆的传送单元160和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元161，所述传送单元160上连接有两真空吸管160a、160b(在图1中未图示)，所述喷涂单元161具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路161a(在图1中未图示)。

所述主控模块10用来控制附着力增强剂涂布模块12、光阻涂布模块13、烘烤模块14、冷却模块15和显影模块16间的配合运作，所述电源模块11用于为主控模块10、附着力增强剂涂布模块12、光阻涂布模块13、烘烤模块14、冷却模块15和显影模块16供电，附着力增强剂涂布模块12用于涂布增加光阻与晶圆表面附着力的化合物。所述光阻涂布模块13用于在化合物涂布模块12在晶圆表面涂布过化合物后，再在所述晶圆表面涂布光阻。烘烤模块14用于烘烤表面涂布有光阻的晶圆，以使所述光阻硬化，冷却模块15用于冷却经烘烤模块14烘烤后的晶圆。

参见图2，显示了真空吸管160a、160b和喷涂吸管161a在机架1上的排布情况，如图所示，所述喷涂管路161a与所述真空吸管160a、160b左右相邻，所述喷涂管路161a沿如图中箭头所示的方向向左进行扫描喷涂，如此，在所述喷涂管路161a进行扫描喷涂时，所述真空吸管160a、160b和所述喷涂吸管161a不产生触碰。

综上所述，本发明的光阻涂布和显影设备调整了真空吸管和喷涂管路的设置位置，使真空吸管不出现在喷涂管路扫描喷涂必经的路线上，如此可大大减少光阻上缺陷的产生几率。