[发明专利]一种光阻涂布和显影设备有效
| 申请号： | 200710043682.4 | 申请日： | 2007-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101344733A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 程蒙 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;H01L21/30 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光阻涂布 显影 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种光阻涂布和显影设备，包括机架、装设在该机架上的主控模块、电源模块、光阻与晶圆附着力增强剂涂布模块、光阻涂布模块、烘烤模块、冷却模块和显影模块，其中，该显影模块具有一用于传送晶圆的传送单元和用于扫描喷涂显影液的喷涂单元，该传送单元上连接有至少一真空吸管，该喷涂单元具有一进行扫描喷涂且与真空吸管相邻的喷涂管路，其特征在于，该真空吸管的设置位置使该喷涂管路进行扫描喷涂时两者不产生触碰。
2.如权利要求1所述的光阻涂布和显影设备，其特征在于，该喷涂管路向左进行扫描喷涂。
3.如权利要求2所述的光阻涂布和显影设备，其特征在于，该真空吸管设置在该喷涂管路右侧。
4.如权利要求2所述的光阻涂布和显影设备，其特征在于，该真空吸管的数量为两个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司，未经上海宏力半导体制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710043682.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种冷凝式燃气热水器
- 下一篇：一种着舰光电导引仿真系统
