[发明专利]光刻胶液清洗过滤器气泡的方法无效
| 申请号： | 200710041905.3 | 申请日： | 2007-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101067729A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 程蒙 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201203上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶液清洗过滤器气泡的方法，每次提供3毫升的光刻胶液流经至少一过滤器，共进行150次，之后每次提供1.5毫升的光刻胶液流经过滤器，共进行200次，且过滤器都是采用每秒过滤0.85毫升光刻胶液。这种低量光刻胶液、低量过滤速度能够降低光刻胶液在过滤器内所产生的气泡数目，并且用较习知更为少量的光刻胶液即可轻易清除过滤器内的气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 清洗 过滤器 气泡 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶液清洗过滤器气泡的方法，其特征在于包括下列步骤：(a)提供3毫升光刻胶液流经至少一过滤器；(b)重复步骤(a)，共进行150次；(c)提供1.5毫升光刻胶液流经该过滤器；及(d)重复步骤(c)，共进行200次。
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