[发明专利]光刻胶液清洗过滤器气泡的方法无效
| 申请号： | 200710041905.3 | 申请日： | 2007-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101067729A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 程蒙 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201203上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 清洗 过滤器 气泡 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于包括下列步骤：
(a)提供3毫升光刻胶液流经一过滤器；
(b)重复步骤(a)，共进行150次；
(c)提供1.5毫升光刻胶液流经该过滤器；及
(d)重复步骤(c)，共进行200次。
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于：该过滤器每秒过滤0.85ml的光刻胶液。
3.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于：该过滤器的材料为PE/UPE。
4.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于：该过滤器在过滤光刻胶液前，事先浸泡于稀释剂中，大约2小时。
5.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于：该步骤(a)的3毫升光刻胶液，是由一泵每转动一次所提供的。
6.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，其特征在于：该步骤(c)的1.5毫升光刻胶液，是由一泵每转动一次所提供的。
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