[发明专利]光刻胶液清洗过滤器气泡的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，特别涉及低量光刻胶液清洗过滤器，且过滤器采用较低的过滤速度使光刻胶液流经过，以减少光刻胶液在过滤器内所产生的气泡数目，并且用少量的光刻胶液就可以清除气泡。

背景技术

由于在半导体制造过程中，要利用光刻胶液沉积光刻胶层前，必须先确保光刻胶液是无杂质的，所以光刻胶液会事先流经过滤器(filter)。

现有利用光刻胶液清洗(purge)过滤器的方法，是采取高量光刻胶液清洗过滤器，且过滤器是以较高过滤速度过滤光刻胶液，现有的方法如下：

(a)先一次用400mL光刻胶液，用以清洗过滤器及移除过滤器内部的气泡；

(b)之后，泵(pump)每转动一次，提供7.5mL光刻胶液流经过滤器，共进行100次，以继续移除过滤器内的气泡。

故大约总共使用：

400mL+100次*7.5mL/次＝1150mL

其中，过滤器是以约1.05mL/秒以上的较高速度过滤光刻胶液。

然而，这种长时间采用高量光刻胶液清洗过滤器的方法，不但会对泵造成伤害，也容使得泵排出的光刻胶液剂量不准确。并且对于某些容易产生气泡的光刻胶液，这种高量光刻胶液、高过滤速度的方式会使得管路内的压差大，进而使光刻胶液容易产生的气泡。假若这些气泡没有被清除时，则必需再使用更多的光刻胶液，以继续移除在过滤器内部的气泡，但气泡的数目可能达到几十个以上、数百个、甚至更多，此时就必需用一星期的时间，每15分钟施加1.5毫升的光刻胶液，故总共尚需再加大约1000毫升，造成光刻胶液严重的浪费。

有鉴于此，本发明针对上述的问题，提供一种更好的光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，以克服上述种种缺点。

发明内容

本发明的一目的在于，提供一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，利用低量的光刻胶液，并以较低的过滤速度过滤光刻胶液，不但使泵不易受到损害，避免排出的光刻胶液用量不准确，且在过滤器内的气泡容易被移除的，进而减少光刻胶液的使用量。

为达到上述目的，本发明所揭示的一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，是当泵每转动一次，提供3毫升的光刻胶液通过过滤器，共进行150次后，之后，当泵每转动一次，提供1.5毫升的光刻胶液通过过滤器，共进行200次，光刻胶液的总用量大约是750毫升，少于现有的光刻胶液用量，且在过滤器内所产生的气泡数目大约是十个左右。再者，过滤器以每秒过滤0.85ml的光刻胶液，故本发明所采用低光刻胶液、低过滤速度可以使管路内的压差小、稳定，能降低气泡数目，并能使用较少量的光刻胶液即能清除过滤器内的气泡。

以下通过附图及实施例进一步说明本发明。

附图说明

图1为本发明利用光刻胶清洗过滤器以减少气泡的步骤流程图。

具体实施方式

本发明提供一种光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，能够防止泵(pump)不易受到损害，并使光刻胶液于过滤器(filter)内所产生的气泡数目容易被清除，避免光刻胶液的浪费。

参照图1，揭示本发明的步骤流程图。如图所示，本发明的光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法，是先进行步骤S1，将过滤器浸泡于稀释剂(thinner)中，大约2小时后，再将过滤器从稀释剂取出，如步骤S2所示。接着进行步骤S3，要利用光刻胶液清洗过滤器，当泵每转动一圈，就供应3毫升的光刻胶液流经过滤器，共进行150次，且过滤器每秒过滤0.85毫升的光刻胶液。然后，进行步骤S4，当泵每转动一圈，提供1.5毫升的光刻胶液流经过滤器，共进行200次，且过滤器每秒过滤0.85毫升的光刻胶液。其中，过滤器的材料为PE或UPE。

由上述可知，本发明的光刻胶液用量大约为750毫升，低于现有的光刻胶液用量，且于过滤器内所产生的气泡数目大约只有十个左右，数目相当的少，之后只要用较少量的光刻胶液就能将气泡轻易移除。另，步骤S1将过滤器事先浸泡在稀释剂中，能增进光刻胶液与过滤器之间的附着力，可使气泡数目更少，效果更为稳定。