[发明专利]一种垂直结构的ZnO紫外光电导探测器的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710019126.3 申请日: 2007-11-20
公开(公告)号: CN101202315A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 张景文;毕臻;边旭明;侯洵;王东 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 李郑建
地址: 710049*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种制备高性能垂直结构的ZnO紫外光电导探测器的方法。该方法利用在蓝宝石或石英衬底上依次沉积ITO薄膜和ZnO薄膜;再对薄膜在氧气氛中对ZnO薄膜进行400℃热处理,改善了ZnO薄膜的光电响应特性;然后将ZnO薄膜层腐蚀后露出ITO薄膜形成ZnO台面;最后在ZnO台面上沉积金属Al作为欧姆接触电极,以此获得了垂直结构的ZnO紫外光电导探测器。整个制备过程简单,成本低廉,易于控制,有利于光电集成,且容易产业化,有很高的实用价值。
搜索关键词: 一种 垂直 结构 zno 紫外光 电导 探测器 制备 方法
【主权项】:
1.一种垂直结构ZnO紫外光电导探测器的制备方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:1)将衬底按照常规工艺清洗并烘干,以去除表面吸附的杂质和水蒸汽,再将其放入真空系统中,使之平行于ITO或ZnO陶瓷靶材放置,距离约为7cm左右;2)预抽真空到10-4Pa,缓慢通入氧气和氩气,同时调节的氧气和氩气流量比到约1∶2左右,把两者的混合气体通入真空室,再使真空室气压保持为1Pa~1.5Pa;3)打开射频源,调节射频功率为100W~200W,依次开始生长ITO薄膜和ZnO薄膜,其中,ITO薄膜的厚度为150nm-200nm,ZnO薄膜的厚度为600nm;4)然后,将样品水平放置在石英炉内,系统抽真空后,再通入高纯O2,并缓慢升温至400℃保持一个小时,进行后退火处理;5)对后退火处理的样品用浓度约为20%的NH4Cl溶液进行腐蚀,直至露出ITO薄膜,形成ZnO台面;6)最后在ZnO台面上表面沉积厚度为200nm的金属Al作为欧姆接触电极,从而得到垂直结构的ZnO紫外光电导探测器。
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