[发明专利]一种可完全降解吸收的药物缓释镁合金支架及应用有效
申请号: | 200710012808.1 | 申请日: | 2007-09-12 |
公开(公告)号: | CN101385875A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 任伊宾;杨柯;张炳春;郑丰;肖克沈 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | A61L31/16 | 分类号: | A61L31/16;A61L31/08;A61L31/02;A61F2/82 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人: | 马 驰;周秀梅 |
地址: | 110016辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及医疗器械技术领域,具体地说是一种可以完全降解吸收的药物缓释镁合金支架,药物释放周期在30天左右。该支架由镁合金精密管材通过激光切割制成,支架表面有双层涂层结构,内层为镁合金基体的暂时保护层,外层为混有药物的可降解高分子薄膜。支架通过两端或表面的标志物在X射线下可视。本发明可降解吸收药物缓释镁合金支架不仅具有优良的力学性能,而且在X射线下可视性好,可通过选择缓释药物,改善和降低支架植入后的再狭窄发生率,支架在生物体内可随时间逐渐降解,被生物体吸收,可用于心血管系统支架或其它腔体支架。 | ||
搜索关键词: | 一种 完全 降解 吸收 药物 镁合金 支架 应用 | ||
【主权项】:
1. 一种可完全降解吸收的药物缓释镁合金支架,其特征在于:支架由镁合金精密管材通过激光切割制成,支架表面有双层涂层结构,涂层总厚度6-15μm,内层为镁合金基体的暂时保护层,厚度为1-5μm,外层为混有药物的可降解高分子薄膜,厚度为5-10μm,药物释放周期在30天左右。
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