[发明专利]具有高熔相的溅射靶无效
| 申请号： | 200710008320.1 | 申请日： | 2007-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101008076A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | M·施洛特;M·舒尔特海斯 | 申请（专利权）人： | W.C.贺利氏有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及含有至少两种相或组分的材料的溅射靶，其中至少一种少数相在基质中是低溶解的，具有高于基质的熔点，至少一种少数相的颗粒或者由它的颗粒形成的团块具有最大10μm平均尺寸，所述材料的密度至少为理论密度的98％。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 高熔相 溅射 | ||
【主权项】：
1、含有至少两种相或组分的材料的溅射靶，其中至少一种少数相在基质中是低溶解的，具有高于基质的熔点，其特征在于所述至少一种少数相的颗粒或者由它的颗粒形成的团块的平均尺寸最大为10μm，并且所述材料的密度至少是理论密度的98％。
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