[发明专利]用于聚合物基体的不透射线涂层无效
| 申请号： | 200680052711.7 | 申请日： | 2006-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101370956A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·M·斯托里;特伦斯·S·麦格拉思 | 申请（专利权）人： | 变色龙科学公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;李丙林 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了特别适用于聚合物基体的改进的不透射线涂层。使用改进的离子等离子体沉积(IPD)方法以提供具有宏观颗粒密实表面的涂层，该表面具有优异不透射线性能。由于高的粘附性及抗剥离及剥落性，该涂层特别适用于聚合物表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 聚合物 基体 不透 射线 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种在聚合物基体上沉积不透射线涂层的离子等离子体沉积(IPD)方法，包括：在聚合物基体上沉积基本不含宏观颗粒的第一涂层；在所述第一涂层上沉积第二高密度宏观颗粒涂层；形成厚度在约1微米至约100微米之间的涂层；其中，电弧速度或所述基体表面离IPD靶的距离控制着宏观颗粒的产生及密度。
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