[发明专利]用于聚合物基体的不透射线涂层

权利要求书

1.一种在聚合物基体上沉积不透射线涂层的离子等离子体沉积(IPD)方法，包括：

在聚合物基体上沉积基本不含宏观颗粒的第一涂层；

在所述第一涂层上沉积第二高密度宏观颗粒涂层；

形成厚度在约1微米至约100微米之间的涂层；

其中，电弧速度或所述基体表面离IPD靶的距离控制着宏观颗粒的产生及密度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二涂层是连续形成而没有沉积的中断。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述沉积的涂层中，宏观颗粒的密度相应于电弧速率的变化或基体表面离所述IPD靶的距离的变化而增大。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基本不含宏观颗粒的第一层与所述密实分布的宏观颗粒第二层能够明显区分。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述密实分布的宏观颗粒层包含约90,000个/cm²、1微米或更大尺寸的宏观颗粒。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述塑料基体为PTFE、ePTFE、聚丙烯、聚酯、PEEK、UHMWPE、硅树脂、聚酰亚胺或ABS。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体为聚酰亚胺或PEEK。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体是医疗装置，选自由瓣膜、植入物、导管、支架及管组成的组。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述基体是PEEK脊骨植入物。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基体为导管。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述不透射线涂层是由金、钛、铌、钼或铪形成。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述不透射线涂层是金或钛。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述不透射线涂层是金。

14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述金以1、5、10、15或20微米的厚度沉积。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述金被沉积成5微米的厚度。

16.一种涂覆有不透射线膜的聚合物基体，所述膜包括在基本不含宏观颗粒的粘着性底涂层上的密实分布的宏观颗粒膜表面，其中该底涂层与所述膜表面相连续。

17.根据权利要求16所述的聚合物基体，其中，所述涂层的厚度在约100nm与约1微米之间。

18.根据权利要求16所述的聚合物基体，其中，所述基体是在医疗应用中使用的装置，选自由支架、导管、瓣膜、管及植入物组成的组。