[发明专利]转印微米级图案至光学物品上的方法以及所获取的光学物品有效
| 申请号： | 200680052538.0 | 申请日： | 2006-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN101365589A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 塞德里克·贝贡;克里斯泰勒·德弗郎科 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | B41F17/00 | 分类号： | B41F17/00;B41K3/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的方法，包括将一个图案(P)以被压敏粘合材料层(2)保留的转印材料(3)一个或多个部分的形式转印到光学物品(1)上，以及通过一个垫的辅助对转印材料部分进行作用，粘合材料层位于垫和接受图案的物品之间。压敏粘合材料的使用使得多种不同材料可以被作为转印材料。所述方法特别适合于制作图案，尤其是光学透镜，特别是眼镜片上的全息图。 | ||
| 搜索关键词： | 微米 图案 光学 物品 方法 以及 获取 | ||
【主权项】：
1.一种转印微米级图案至一个光学物品(1)表面的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：/a/在包括凹进(12)和突起(13)的印模(11)的表面(S)上淀积一个至少包括一种转印材料(14)的层，其中，所述凹进(12)和突起(13)形成微浮凸，所述微浮凸对应待转印的图案(P)且采用微米级或亚微米级定义；/b/淀积一层压敏粘合层(2)至所述光学物品的衬底的表面；/c/使包括转印材料层(14)的印模表面(S)与所述压敏粘合层(2)接触；/d/对所述印模作用一个压力；和/e/从包括所压敏粘合层的所述光学物品的表面移除所述印模。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃西勒国际通用光学公司，未经埃西勒国际通用光学公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680052538.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
