[发明专利]转印微米级图案至光学物品上的方法以及所获取的光学物品有效

专利信息
申请号: 200680052538.0 申请日: 2006-12-06
公开(公告)号: CN101365589A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 塞德里克·贝贡;克里斯泰勒·德弗郎科 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: B41F17/00 分类号: B41F17/00;B41K3/14
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 郑立柱
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
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【权利要求书】:

1.一种转印微米级图案至一个光学物品(1)表面的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

/a/在包括凹进(12)和突起(13)的印模(11)的表面(S)上淀积一个至少包括一种转印材料(14)的层,其中,所述凹进(12)和突起(13)形成微浮凸,所述微浮凸对应待转印的图案(P)且采用微米级或亚微米级定义;

/b/淀积一层压敏粘合层(2)至所述光学物品的衬底的表面;

/c/使包括转印材料层(14)的印模表面(S)与所述压敏粘合层(2)接触;

/d/对所述印模作用一个压力;和

/e/从包括所压敏粘合层的所述光学物品的表面移除所述印模。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤/d/中,作用于所述印模的压力引起位于所述印模(11)的表面的所述凸起(13)的转印材料层(14)的部分(3)选择性地转印至所述光学物品的表面上。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述微米级图案包括一个或多个单独的图案,每个单独的图案的尺寸的取值范围为10微米至50纳米。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)在其被一束光照亮时为一个衍射图案。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)是一个全息图案。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)为一个振幅全息图类型的全息图案。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述转印图案为一个由一组连续像素组成的数字全息图类型的全息图案,每个像素的表面面积的取值范围为0.2平方微米至25平方微米。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)占据少于所述光学物品(1)的一个面的部分。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)占据所述光学物品(1)的一个面的面积小于25平方毫米的部分。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)占据所述光学物品(1)的整个面。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)包括一个网格的平行电传导线。

12.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,光学物品(1)选自光学仪器透镜,瞄准镜,护目镜和眼镜片。

13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述光学物品(1)是一个选自无焦透镜,单焦透镜,双焦点透镜,三焦点透镜,和渐进式或变焦距透镜的眼镜片。

14.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述转印图案(P)为一个振幅全息图类型的全息图案,当一束光(101)在所述图案的位置穿过所述透镜(1)时,所述全息图案(P)适用于形成一个阅读图像。

15.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,压敏粘合材料层(2)通过旋转涂覆法,喷雾法,或由印刷机喷出一束物质的处理淀积在所述光学物品(1)的表面。

16.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,压敏粘合材料层(2)最初带有至少一个保护片(20),接着通过所述片被施于光学物品(1)的表面,然后所述片被剥除以将粘合材料层留在所述光学物品的表面。

17.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述压敏粘合层的厚度在0.5μm至300μm的范围中。

18.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在执行所述步骤/a/和/或所述步骤/e/之后,还包括如下步骤:

/f/用一种或多种功能性涂料覆盖所述光学物品的表面。

19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述功能性涂料包括防冲击,耐磨,抗反射,防尘,防雾,抗静电,偏振,彩色或光致变色类型的功能。

20.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,附加的所述步骤/f/在所述步骤/e/之后执行。

21.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述转印材料是一种金属材料。

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