[发明专利]在成像器的陷入区中提供均匀滤色片的方法及装置

摘要

本发明揭示一种用于在陷入区或沟槽深度超过滤色片膜的厚度时改进陷入式滤色片阵列的平面性的方法及装置。所述方法包括以下步骤：在应用CFA之后，使用额外涂层材料来涂覆整个晶片；然后使用CMP来平面化所述抗蚀剂层；且接着使用干式蚀刻来将平面表面向下转移到实现具有均匀厚度的平面滤色片所需的程度。

主权项

1、一种像素，其包含：光电转换器件，其形成在衬底上；透镜，其在所述光电转换器件上；多个已制造层，其在所述光电转换器件与透镜之间；沟槽，其形成在所述透镜与光电转换器件之间并在所述多个已制造层的至少一者中的位置处；及滤色片层，其具有陷入所述沟槽中的均匀厚度。