[发明专利]含有N－Rf基的芳香杂环化合物的制造方法无效
| 申请号： | 200680049330.3 | 申请日： | 2006-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101346350A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 小松雄三;毛利晴彦;青山博一 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C07D207/325 | 分类号： | C07D207/325;C07D209/08;C07D209/20;C07D231/12;C07D233/56;C07D233/60;C07D233/64;C07D249/08;C07D473/00;C07D473/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;赵冬梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供含有N－Rf基的芳香杂环化合物的制造方法，所述制造方法在不使用催化剂的情况下以高反应收率将环中具有N－H基的芳香杂环化合物的N－H基直接转化为N－Rf基。本发明的含有在环中具有N－Rf基(－Rf为含氟有机基团)的芳香杂环结构的化合物的制造方法的特征在于，在不存在碱金属的条件下，使环中具有N－H基的芳香杂环化合物和氟代链烯烃反应。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 rf 芳香 杂环化合物 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、化合物(C)的制造方法，所述化合物(C)含有在环中具有N-Rf基的芳香杂环结构，所述-Rf如式(c)所示，所述化合物(C)的制造方法的特征在于，在不存在碱金属的条件下，使环中具有N-H基的芳香杂环化合物(A)和式(B)所示的氟代链烯烃(B)反应，所述式(B)为：![]()
式(B)中，Rb1、Rb2和Rb3相同或不同，均为H、卤原子、官能团或1价有机基团，所述1价有机基团可以被卤原子取代、可以含有醚键且可以具有聚合性基团；所述式(c)为：![]()
式(c)中，Rc1与式(B)的Rb1相同，Rc2与式(B)的Rb2相同，Rc3与式(B)的Rb3相同。
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