[发明专利]薄膜体声谐振器(FBAR)的频率调谐无效
| 申请号: | 200680047721.1 | 申请日: | 2006-12-06 | 
| 公开(公告)号: | CN101361266A | 公开(公告)日: | 2009-02-04 | 
| 发明(设计)人: | V·R·劳;T·G·多罗斯;Q·马;K·塞尚;L·-P·王 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 | 
| 主分类号: | H03H3/04 | 分类号: | H03H3/04;H03H9/58;H03H9/17;H03H9/02 | 
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 柯广华;王忠忠 | 
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | 可在单晶圆上制造多个FBAR,以后再进行切割。理想情况下,在晶圆中形成的所有器件具有相同的谐振频率。然而,由于制造偏差,FBAR器件的频率响应在晶圆上可能略微改变。可产生RF分布图以便确定晶圆上的区域(50,52),其中那个区域中的FBAR全都与目标频率相差相似的程度。可将调谐层(40)沉积在晶圆之上。基于RF分布图所标识的区域对调谐层光刻形成图案的特征可用于将FBAR校正到目标谐振频率,而FBAR在晶圆上仍保持原样。 | ||
| 搜索关键词: | 薄膜 谐振器 fbar 频率 调谐 | ||
【主权项】:
                1.一种装置,包括:晶圆;多个器件,各具有与其关联的谐振频率,制造在所述晶圆上;调谐层,在所述多个器件上面;与所述调谐层关联的多个区域,其中各个区域包括不同的调谐层图案特征,以便将所述多个器件调谐到目标谐振频率。
            
                    下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
                
                
            该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680047721.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。





