[发明专利]用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 200680046413.7 | 申请日： | 2006-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN101326257A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 李基罗;金种珌;李政熹;文光翼;高彰范;张淳浩;曹升范;洪瑛晙 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;黄丽娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于同时抛光阳离子带电材料和阴离子带电材料的辅助剂，为提高对阴离子带电材料的抛光选择性，该辅助剂在阳离子带电材料上形成吸附层，其中，该辅助剂包含含有下述组分的聚电解质盐：(a)重均分子量为2,000～50,000的直链聚电解质与重均分子量为1,000～20,000并包含主链和侧链的接枝型聚电解质的混合物；以及(b)碱性物质。本发明还公开了包含上述辅助剂和磨粒的CMP(化学机械抛光)浆料。与仅使用直链聚电解质的CMP浆料相比，包含直链聚电解质与接枝型聚电解质的混合物的辅助剂，能够提高抛光选择性，并且能够通过控制直链聚电解质与接枝型聚电解质的比例而获得所需范围的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 抛光 选择性 辅助剂 以及 包含 化学 机械抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1、一种用于同时抛光阳离子带电材料和阴离子带电材料的辅助剂，为提高对阴离子带电材料的抛光选择性，所述辅助剂在阳离子带电材料上形成吸附层，其中该辅助剂包含含有下述组分的聚电解质盐：(a)重均分子量为2,000～50,000的直链聚电解质与重均分子量为1,000～20,000并包含主链和侧链的接枝型聚电解质的混合物；以及(b)碱性物质。
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