[发明专利]制造钼钛溅射板和靶的方法无效
| 申请号： | 200680038682.9 | 申请日： | 2006-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101360576A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | M·E·盖多斯;P·库马;S·米勒;N·C·米尔斯;G·罗扎克;J·A·希尔茨;R·R·吴 | 申请（专利权）人： | H.C.施塔克公司 |
| 主分类号： | B22F3/15 | 分类号： | B22F3/15;B22F7/06;B23K20/02;C22C1/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了钼钛溅射靶。一方面，所述靶基本上不含β(Ti，Mo)合金相。另一方面，所述靶基本上由单相β(Ti，Mo)合金组成。在这两种情况下，溅射过程中的微粒排放减少。本发明还提供了制备所述靶的方法，将靶接合起来制造大面积溅射靶的方法，以及由所述靶制造的膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 溅射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基本上不存在β(Ti，Mo)相的钼-钛溅射靶的制备方法，其包括：(a)提供钼粉和钛粉，其中基于钼粉和钛粉的总原子％，所述钛粉的含量约为5-95原子％，其余为钼粉；(b)掺合钼粉和钛粉，形成掺合粉末；(c)任选地压固该掺合粉末；(d)将该压固的粉末封装起来；(e)加热的同时压实该封装的粉末，形成第一MoTi靶板。
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