[发明专利]具有保护性光学涂层的浸没光刻系统

摘要

提供了一种浸没光刻系统，其包括可用于产生具有标称波长的光的光源和光学成像系统。该光学成像系统具有在从光源到待由其构图的物件的光路上的光学元件。所述光学元件具有适于接触液体的表面，该液体占据该表面和该物件之间的空间。该光学元件包括可由该液体降解的材料以及覆盖该表面上的可降解材料以保护该表面不受液体影响的保护涂层，该保护涂层对光透明、当暴露于光时稳定且当暴露于液体时稳定。

主权项

1. 一种浸没光刻系统，包括：光源，其可用于产生具有标称波长的光；和光学成像系统，其包括在从所述光源到待由所述光学成像系统构图的物件的光路上的光学元件，所述光学元件具有适于接触液体的表面，所述液体占据所述表面和所述物件之间的空间，所述光学元件包括可由所述液体降解的材料，以及保护涂层，其覆盖所述表面上的所述可降解材料，以保护所述表面不受液体的影响，所述保护涂层对光透明、当暴露于所述光时稳定且当暴露于所述液体时稳定。