[发明专利]用于对微机械及纳米机械结构进行检验的系统及方法无效
| 申请号： | 200680033052.2 | 申请日： | 2006-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN101278357A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | F·J·塔马约德米古尔;J·默滕斯;M·卡尔贾戈梅茨 | 申请（专利权）人： | 康斯乔最高科学研究公司 |
| 主分类号： | G12B21/20 | 分类号： | G12B21/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;黄力行 |
| 地址： | 西班牙*** | 国省代码： | 西班牙;ES |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于表面检验的系统，其被设置用于探测构成机械结构(5)，例如微机械结构或纳米机械结构，之一部分的多个元件(51)的不同点处的振动和/或相对位移特性。根据本发明，使光束沿第一轨迹(A)沿所述机械结构发生位移，以探测沿所述轨迹(A)长度的不同的相继参考位置(C)，并使光束进一步沿多个第二轨迹(B)沿所述机械结构位移，其中每一所述第二轨迹(B)均与其中一个前述参考位置(C)相关联。此外，本发明进一步涉及一种对应方法以及一种实施该方法的程序。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微机 纳米 机械 结构 进行 检验 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于表面检验的系统，其被设置成探测构成机械结构(5)之一部分的多个元件(51)的多个点的相对位移和/或振动特性，所述系统包括：光源(1)，其被设置成产生至少一个光束(11)；位置敏感探测器(2)，其被设置成当所述光束反射出所述机械结构(5)时接收所述光束，并响应于所述光束的接收而产生至少一个输出信号；电子控制系统(3)；扫描装置(4)，其用于遵循来自所述电子控制系统(3)的指令而使所述光束相对于所述机械结构(5)进行相对位移，以利用所述光束扫描所述机械结构；其中所述电子控制系统(3)被设置成控制所述扫描装置(4)，以使所述光束沿第一轨迹(A)沿所述机械结构位移，从而探测沿所述第一轨迹(A)的多个相继的参考位置(C)，其中所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以通过分析来自所述位置敏感探测器(2)的至少一个输出信号而确定所述参考位置(C)；其中所述电子控制系统(3)被进一步设置用于控制所述扫描装置(4)，以使所述光束沿多个第二轨迹(B)沿所述机械结构发生位移，所述第二轨迹(B)中的每一个均与所述参考位置(C)的其中一个相关联；所述电子控制系统被进一步设置成在所述光束沿所述第二轨迹(B)的每一个位移期间从所述位置敏感探测器(2)获得多个位置信号输出。
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