[发明专利]用于对微机械及纳米机械结构进行检验的系统及方法

权利要求书

1.一种用于表面检验的系统，其被设置成探测构成机械结构(5)之一部分的多个元件(51)的多个点的相对位移和/或振动特性，所述系统包括：

光源(1)，其被设置成产生至少一个光束(11)；

位置敏感探测器(2)，其被设置成当所述光束反射出所述机械结构(5)时接收所述光束，并响应于所述光束的接收而产生至少一个输出信号；

电子控制系统(3)；

扫描装置(4)，其用于遵循来自所述电子控制系统(3)的指令而使所述光束相对于所述机械结构(5)进行相对位移，以利用所述光束扫描所述机械结构；

其中所述电子控制系统(3)被设置成控制所述扫描装置(4)，以使所述光束沿第一轨迹(A)沿所述机械结构位移，从而探测沿所述第一轨迹(A)的多个相继的参考位置(C)，其中所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以通过分析来自所述位置敏感探测器(2)的至少一个输出信号而确定所述参考位置(C)；

其中所述电子控制系统(3)被进一步设置用于控制所述扫描装置(4)，以使所述光束沿多个第二轨迹(B)沿所述机械结构发生位移，所述第二轨迹(B)中的每一个均与所述参考位置(C)的其中一个相关联；

所述电子控制系统被进一步设置成在所述光束沿所述第二轨迹(B)的每一个位移期间从所述位置敏感探测器(2)获得多个位置信号输出。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以通过分析来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值而确定所述参考位置(C)。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以当一位置对应于来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值中的局部最大值时判定所述位置为参考位置。

4.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以当一位置对应于来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值中的局部最小值时判定所述位置为参考位置。

5.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以当一位置对应于来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值中的局部斜度最大值时判定所述位置为参考位置。

6.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统(3)在运行上与所述位置敏感探测器(2)相关联，以当一位置对应于如下位置时判定所述位置为参考位置：其与对应于来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值中的局部最大和/或最小值的位置具有规定的关系。

7.如权利要求2-6中任一权利要求所述的系统，其特征在于，来自所述位置敏感探测器(2)的所述至少一个输出信号的幅值是指示由所述位置敏感探测器所接收的所述光束的强度。

8.如前述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统被设置用于：

使所述光束沿所述第一轨迹(A)位移；

在探测到参考位置(C)时，中断所述光束沿所述第一轨迹(A)的位移，并改为使所述光束沿对应于所述参考位置(C)的第二轨迹(B)位移；

随后，继续使所述光束沿所述第一轨迹(A)位移，直至探测到下一参考位置(C)为止。

9.如权利要求1-7中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述电子控制系统被设置用于：

使所述光束沿所述第一轨迹(A)位移，直至到达所述第一轨迹(A)的末端为止，同时记录相继的参考位置(C)；

然后，在到达所述第一轨迹(A)的所述末端后，接着使所述光束沿对应于所记录的参考位置(C)的所述第二轨迹(B)位移。

10.如前述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述第二轨迹(B)包括每一元件中或每一元件的一区域中的很大数量的点，以获得所述元件的或所述元件的所述区域的斜度、位移和/或振动的总体表面描绘图。

11.如前述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述第一轨迹(A)是沿第一方向的大致直的轨迹。