[发明专利]深锅状铜溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 200680010000.3 | 申请日： | 2006-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN101151398A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | 福岛笃志;塚本志郎 | 申请（专利权）人： | 日矿金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/285;H01L21/28 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种通过模锻制造的深锅状铜溅射靶，该深锅状靶内面的所有部位的维氏硬度Hv在70以上。靶组织中的平均结晶粒径为65μm以下。深锅状靶内部的面具备通过X射线衍射得到的(220)、(111)、(200)、(311)的结晶取向，该深锅状靶受到腐蚀的面的结晶取向为(220)主取向。本发明的课题在于，通过改良、设计锻造工序及热处理工序，得到能够稳定制造结晶粒径微细且均匀并且特性优良的溅射靶的方法、及由此得到的品质优良的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 深锅状铜 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过模锻制造的深锅状铜溅射靶，其特征在于，该深锅状靶内面的所有部位的维氏硬度Hv为70以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日矿金属株式会社，未经日矿金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680010000.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：治疗产后血晕的中药
- 下一篇：一种用于多媒体广播和组播业务中的下载分发方法
- 同类专利
- 专利分类
