[发明专利]离子束扫描控制方法和用于均匀注入离子的系统有效
申请号: | 200680001793.2 | 申请日: | 2006-01-04 |
公开(公告)号: | CN101124650A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | V·本维尼斯特;W·迪弗吉利奥;P·凯勒曼 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯技术公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;王小衡 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供用于在离子注入系统中校准离子束扫描器的方法,该方法包括:在沿扫描方向的多个位置处测量多个初始电流密度值,其中这些值分别与多个初始电压扫描间隔中的一个对应,并且与对应的多个初始扫描时间值中的一个对应;基于测量的初始电流密度值和初始扫描时间值来建立线性方程组;以及确定与降低电流密度剖面偏差的线性方程组的解对应的一组扫描时间值。提供用于在离子注入系统中校准离子束扫描器的校准系统,该校准系统包括剂量测定系统和控制系统。 | ||
搜索关键词: | 离子束 扫描 控制 方法 用于 均匀 注入 离子 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于在离子注入系统中校准离子束扫描器的方法,该方法包括:在沿扫描方向的多个位置处测量多个初始电流密度值,这些初始电流密度值分别与多个初始电压扫描间隔中的一个对应,并且与对应的多个初始扫描时间值中的一个对应;基于测量的初始电流密度值和初始扫描时间值来建立线性方程组;以及对于电压扫描间隔确定一组扫描时间值,所述扫描时间值对应于降低电流密度剖面偏差的线性方程组的解。
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